即時量測

「即時」的原文 "In-situ" 為拉丁文,字面翻譯為「在位置上」。這個詞用於製程監控情境中,表示在薄膜沉積過程中即時以工具觀察薄膜形成。LayTec 的即時量測技術是新薄膜製程、新材料與新結構發展的關鍵。在既有的製程中,即時量測也是高良率和最大化正常運作時間的必備技術。LayTec 的即時監控技術是目前業界最先進的解決方案。我們的系統適用於所有薄膜的應用,提供取得所有重要的薄膜成長參數。

EpiTT產品系列包括 EpiTT、EpiTwin TT 和 EpiTriple TT。這些即時量測工具,結合實際晶圓溫度的發射率校正測溫,以及即時量測成長率中三種波長的反射率、薄膜層的厚度、粗糙度和其他薄膜品質之功能。   ... more

 

EpiCurve® TT產品系列結合晶圓曲率量測和所有 EpiTT .EpiCurve® TT、EpiCurve®Twin TT 和 EpiCurve®Triple TT 的功能,其用於應變層堆疊,幫助避免破裂,讓晶圓平整並控制溫度均勻性。.   ... more

 

Pyro 400 提供精準實際的藍寶石和碳化矽 (SiC) 中氮化鎵 (GaN) 表面溫度量測,以直接控制氮化銦鎵 (InGaN) 多量子井 (MQW) 層的成長。 ... more

 

EpiRAS® TT is used for cubic semiconductors for III-V surface and interface analysis in the R&D stage. The in-situ system provides data on wafer temperature, growth rate, color-plot (RAS/sR) fingerprints, composition, morphology and doping levels. ... more

 

The products of the EpiR TT family are applied for spectroscopic analysis of film thickness, composition, 3D topography and other layer qualities in the R&D stage ... more